|
|
| Tên thương hiệu: | zmkj |
| MOQ: | 3 CHIẾC |
| giá bán: | by case |
| Chi tiết bao bì: | hộp wafer đơn |
| Điều khoản thanh toán: | Công Đoàn Phương Tây, T/T, , MoneyGram |
Gallium Nitride Substrate GaN Wafers GaN-On-Silicon Substrate tự do bán xúc phạm
Chúng tôi có thể cung cấp nền tinh thể duy nhất hoặc tấm epitaxial 2 đến 8 inch gallium nitride (GaN), và các tấm epitaxial GaN 2 đến 8 inch dựa trên sapphire / silicon có sẵn.
The rapid development of the first and second generation semiconductor materials represented by silicon (Si) and gallium arsenide (GaAs) has promoted the rapid development of microelectronics and optoelectronics technologyTuy nhiên, do các tính chất hạn chế của vật liệu, hầu hết các thiết bị được làm từ các vật liệu bán dẫn này chỉ có thể hoạt động trong môi trường dưới 200 ° C,không thể đáp ứng các yêu cầu của công nghệ điện tử hiện đại cho nhiệt độ cao, tần số cao, áp suất cao và các thiết bị chống bức xạ.
Gallium nitride (GaN), giống như các vật liệu silicon carbide (SiC), thuộc thế hệ thứ ba của vật liệu bán dẫn với chiều rộng khoảng cách băng tần rộng, với chiều rộng khoảng cách băng tần lớn, dẫn nhiệt cao,Tỷ lệ di cư bão hòa electron caoCác thiết bị GaN có nhiều triển vọng ứng dụng ở tần số cao,Các lĩnh vực tốc độ cao và nhu cầu điện năng cao như đèn LED tiết kiệm năng lượng, màn hình chiếu laser, xe năng lượng mới, lưới điện thông minh, truyền thông 5G.
Các vật liệu bán dẫn thế hệ thứ ba chủ yếu bao gồm SiC, GaN, kim cương, v.v., bởi vì chiều rộng khoảng cách dải của nó (Eg) lớn hơn hoặc bằng 2,3 electron volt (eV),còn được gọi là các vật liệu bán dẫn băng tần rộngSo với các vật liệu bán dẫn thế hệ thứ nhất và thứ hai, các vật liệu bán dẫn thế hệ thứ ba có những lợi thế của độ dẫn nhiệt cao, trường điện phân hỏng cao,Tốc độ di cư electron bão hòa cao, và năng lượng liên kết cao, có thể đáp ứng các yêu cầu mới của công nghệ điện tử hiện đại cho nhiệt độ cao, công suất cao, áp suất cao,Tăng độ tần số cao và kháng bức xạ và các điều kiện khắc nghiệt khácNó có triển vọng ứng dụng quan trọng trong các lĩnh vực quốc phòng, hàng không, hàng không vũ trụ, thăm dò dầu mỏ, lưu trữ quang học, v.v.và có thể giảm mất năng lượng hơn 50% trong nhiều ngành công nghiệp chiến lược như truyền thông băng thông rộng, năng lượng mặt trời, sản xuất ô tô, ánh sáng bán dẫn và lưới điện thông minh, và có thể giảm khối lượng thiết bị hơn 75%,có ý nghĩa quan trọng đối với sự phát triển của khoa học và công nghệ con người.
| Điểm | GaN-FS-C-U-C50 | GaN-FS-C-N-C50 | GaN-FS-C-SI-C50 |
| Chiều kính | 50.8 ± 1 mm | ||
| Độ dày | 350 ± 25 μm | ||
| Định hướng | C plane (0001) off angle towards M-axis 0,35 ± 0,15° | ||
| Đơn giản | (1-100) 0 ± 0,5°, 16 ± 1 mm | ||
| Căn hộ thứ cấp | (11-20) 0 ± 3°, 8 ± 1 mm | ||
| Khả năng dẫn điện | Loại N | Loại N | Phân cách nhiệt |
| Kháng thản (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106 Ω·cm |
| TTV | ≤ 15 μm | ||
| BOW | ≤ 20 μm | ||
| Ga bề mặt bề mặt thô | < 0,2 nm (đánh bóng); | ||
| N Độ thô bề mặt mặt | 0.5 ~ 1,5 μm | ||
| Tùy chọn: 1 ~ 3 nm (đầu mịn); < 0,2 nm (đánh bóng) | |||
| Mật độ trật tự | Từ 1 x 105 đến 3 x 106 cm-2 (được tính bằng CL) * | ||
| Mật độ khiếm khuyết vĩ mô | < 2 cm-2 | ||
| Khu vực sử dụng | > 90% (không bao gồm các khuyết điểm cạnh và macro) | ||
* Có thể được tùy chỉnh theo yêu cầu của khách hàng, cấu trúc khác nhau của silicon, sapphire, SiC dựa trên GaN epitaxial tấm
Các sản phẩm liên quan khác của chúng tôi
