• Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8"
  • Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8"
  • Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8"
  • Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8"
Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8"

Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8"

Thông tin chi tiết sản phẩm:

Nguồn gốc: China
Hàng hiệu: ZMSH
Số mô hình: Si wafer

Thanh toán:

Số lượng đặt hàng tối thiểu: 10
Thời gian giao hàng: 2-4 tuần
Điều khoản thanh toán: T/T
Giá tốt nhất Tiếp xúc

Thông tin chi tiết

Bề mặt trước: CMP đánh bóng, Ra < 0,5 Nm (một mặt đánh bóng, SSP) Hệ số giãn nở nhiệt: 2,6·10-6°C -1
Làm cong: 30 µm RRV: 8% (6mm)
chiều dài phẳng chính: 32,5 +/- 2,5 mm Chiều dài phẳng thứ cấp: 18,0 +/- 2,0 triệu
Độ dày: 525 Ôm +/- 20 Ôm (SSP) Loại/Dopant: P/Boron
Điểm nổi bật:

Chất nền bán dẫn tinh thể đơn được đánh bóng

,

Thiết bị điện tử Si Wafer

,

2′′ Single Crystal Si Wafer

Mô tả sản phẩm

Mô tả sản phẩm:

Một wafer silicon, thường được gọi là một wafer Si, là một thành phần cơ bản trong ngành công nghiệp bán dẫn, đóng một vai trò quan trọng trong việc sản xuất các thiết bị điện tử.một vật liệu bán dẫn, được sử dụng để sản xuất các miếng này do tính chất điện tuyệt vời của nó.

Silicon wafer là chất nền dạng đĩa mỏng thường được làm từ một tinh thể silic.sau đó được cắt thành miếng mỏng bằng cách sử dụng kỹ thuật cắt chính xácCác miếng vải kết quả được đánh bóng để đạt được bề mặt mịn và phẳng.

Những miếng này phục vụ như nền tảng cho việc tạo ra các mạch tích hợp (IC) và các thiết bị bán dẫn khác.Quá trình chế tạo chất bán dẫn bao gồm việc lắng đọng các vật liệu khác nhau trên miếng silicon, tạo ra các mẫu phức tạp bằng cách sử dụng photolithography, và khắc để tạo ra các transistor, diode và các thành phần điện tử khác.

Các wafer Si có kích thước khác nhau, với đường kính thường dao động từ 100 đến 300 mm. Sự lựa chọn kích thước wafer phụ thuộc vào các tiêu chuẩn công nghiệp và yêu cầu sản xuất.Các wafer lớn hơn cho phép hiệu quả sản xuất cao hơn và chi phí thấp hơn cho mỗi chip.

Ngành công nghiệp bán dẫn phụ thuộc rất nhiều vào các tấm silicon để sản xuất hàng loạt các vi mạch được sử dụng trong các thiết bị điện tử như máy tính, điện thoại thông minh và các hệ thống điện tử khác nhau.Sự tiến bộ liên tục trong công nghệ đã dẫn đến sự phát triển của các thiết bị bán dẫn nhỏ hơn và mạnh hơn, thúc đẩy nhu cầu về các tấm silicon chất lượng cao.

Tóm lại, các wafer silic là các khối xây dựng của các thiết bị bán dẫn hiện đại, tạo điều kiện cho việc sản xuất các mạch tích hợp cung cấp năng lượng cho các thiết bị điện tử chúng ta sử dụng hàng ngày.Sản xuất chính xác và vai trò quan trọng trong ngành công nghiệp bán dẫn làm cho chúng trở thành một yếu tố quan trọng trong thế giới điện tử.

Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8" 0

Đặc điểm:

  • Cấu trúc tinh thể:Si Wafers thường được trồng từ một tinh thể duy nhất của silicon, thể hiện cấu trúc lưới tinh thể được xác định rõ ràng.Cấu trúc tinh thể đơn này rất cần thiết cho hiệu suất và sự ổn định của các thiết bị bán dẫn.

  • Độ tinh khiếtĐộ tinh khiết cao là một đặc điểm quan trọng của Si Wafers, với kiểm soát nghiêm ngặt đối với các tạp chất.

  • Khả năng dẫn điện:Silicon là một vật liệu bán dẫn, và tính dẫn của nó bị ảnh hưởng bởi doping.Độ dẫn điện của silicon có thể được kiểm soát để sản xuất các thiết bị điện tử như transistor.

  • Kích thước:Kích thước Si Wafer thường được mô tả về đường kính và độ dày.trong khi lựa chọn độ dày ảnh hưởng đến quy trình sản xuất và thiết kế thiết bị.

  • Độ mịn bề mặt:Bề mặt của Si Wafers được đánh bóng chính xác để đảm bảo tính phẳng và mịn màng.

  • Điện tử mở rộng nhiệt:Tỷ lệ mở rộng nhiệt của Si Wafers cần phù hợp với các vật liệu khác để ngăn ngừa căng thẳng và biến dạng trong thời gian thay đổi nhiệt độ, đảm bảo sự ổn định của thiết bị.

  • Độ phẳng:Độ phẳng của Si Wafers là rất quan trọng đối với các quy trình sản xuất như nhiếp ảnh quang, đảm bảo sao chép chính xác các mẫu.

  • Độ minh bạch quang học:Trong một số ứng dụng, Si Wafers cần phải thể hiện độ minh bạch quang học tốt để hỗ trợ sản xuất các thiết bị quang học.

  • Sự ổn định hóa học:Si Wafers thể hiện sự ổn định tương đối trong các môi trường hóa học khác nhau, làm cho chúng trở thành chất nền lý tưởng cho nhiều quy trình bán dẫn khác nhau.

  • Khả năng xử lý:Si Wafers dễ dàng chế biến và chuẩn bị, làm cho chúng trở thành một trong những vật liệu cơ sở được sử dụng phổ biến nhất trong ngành công nghiệp bán dẫn.

Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8" 1

Các thông số kỹ thuật:

Các thông số kỹ thuật Giá trị
Chiều dài phẳng thứ cấp 18.0 +/- 2,0 mm
Vật liệu nền Vỏ silic đơn tinh thể
Kháng điện 10-20 Ohm-cm
Hàm lượng oxy 1.6 X 10^18 nguyên tử/cm3
Loại/ Chất kích thích P/ Boron
Độ dày 525 Um +/- 20 Um (SSP)
Định hướng phẳng chính < 110> +/-1°
Chiều kính 100 mm +/- 0,5 mm
Bề mặt trước CMP đánh bóng, Ra < 0,5 Nm (một mặt đánh bóng, SSP)
Phương pháp phát triển MCZ
Công nghệ phim mỏng Vỏ silic oxit siêu dày
Ứng dụng -
 

Ứng dụng:

Các mạch tích hợp (IC): Các tấm Si là nền chính để sản xuất các mạch tích hợp được sử dụng trong các thiết bị điện tử.

Transistor: Các wafer silicon rất quan trọng trong việc chế tạo transistor, các thành phần cơ bản trong mạch điện tử.

Diode: Si wafer phục vụ như là nền tảng cho việc sản xuất diode, các thiết bị bán dẫn thiết yếu với các ứng dụng khác nhau.

Máy vi xử lý: Việc sản xuất các vi xử lý, bộ não của máy tính và thiết bị điện tử, phụ thuộc rất nhiều vào các tấm Si.

Thiết bị bộ nhớ: Si wafer được sử dụng để sản xuất các loại thiết bị bộ nhớ khác nhau, bao gồm RAM và bộ nhớ flash.

Các tế bào năng lượng mặt trời: Các tấm silicon là vật liệu chính trong việc sản xuất các tế bào năng lượng mặt trời, chuyển đổi ánh sáng mặt trời thành năng lượng điện.

Thiết bị quang điện tử: Si wafer đóng một vai trò trong sản xuất các thiết bị quang điện tử như đèn diode phát sáng (LED) và máy dò ánh sáng.

Các cảm biến: Các tấm silicon được sử dụng trong việc chế tạo các cảm biến cho các ứng dụng như áp suất, nhiệt độ và cảm biến chuyển động.

Thiết bị MEMS: Các thiết bị hệ thống vi điện cơ học (MEMS), chẳng hạn như máy đo tốc độ và kính quay, được sản xuất trên các tấm Si.

Thiết bị điện: Si wafer góp phần sản xuất các thiết bị bán dẫn điện được sử dụng trong điện tử điện và hệ thống điện.

Thiết bị tần số vô tuyến (RF): Si wafer được sử dụng trong việc tạo ra các thiết bị RF cho truyền thông không dây và xử lý tín hiệu.

Máy vi điều khiển: Các tấm Si là một phần không thể thiếu trong việc sản xuất các máy vi điều khiển, được tìm thấy trong nhiều hệ thống điện tử khác nhau.

Các mạch analog: Các tấm silicon được sử dụng để chế tạo các mạch analog để xử lý tín hiệu liên tục trong điện tử.

Các thành phần sợi quang: Si wafer đóng một vai trò trong việc sản xuất các thành phần cho các hệ thống truyền thông sợi quang.

Các cảm biến y sinh: Các tấm silicon được sử dụng trong sản xuất các cảm biến cho các ứng dụng y sinh, bao gồm các cảm biến glucose và microarray DNA.

Điện thoại thông minh: Si wafer góp phần sản xuất các chip bán dẫn được sử dụng trong điện thoại thông minh cho các chức năng khác nhau.

Điện tử ô tô: Si wafer được sử dụng trong sản xuất các thành phần bán dẫn cho điện tử ô tô, bao gồm cả các đơn vị điều khiển động cơ.

Điện tử tiêu dùng: Các thiết bị điện tử tiêu dùng khác nhau, chẳng hạn như TV, máy ảnh và thiết bị âm thanh, kết hợp các tấm Si trong các thành phần điện tử của chúng.

Thiết bị truyền thông không dây: Các tấm Si rất cần thiết cho việc sản xuất chip được sử dụng trong các thiết bị truyền thông không dây như router và modem.

Bộ xử lý tín hiệu kỹ thuật số (DSP): Các tấm silicon được sử dụng trong sản xuất DSP, các vi xử lý chuyên dụng cho các ứng dụng xử lý tín hiệu kỹ thuật số.

 

Tùy chỉnh:

Chúng tôi chuyên cung cấp dịch vụ chất nền bán dẫn tùy chỉnh với các thuộc tính sau:

  • Tên thương hiệu: ZMSH
  • Số mô hình: Si wafer
  • Địa điểm xuất xứ: Trung Quốc
  • Độ dày: 525 Um +/- 20 Um (SSP)
  • Hàm lượng carbon: 0,5 ppm
  • Hàm lượng oxy: 1,6 X 10^18 nguyên tử/cm3
  • Định hướng phẳng thứ cấp: 90 độ từ phẳng chính
  • Gói: Gói trong môi trường phòng sạch lớp 100, trong băng cassette 25 miếng.
  • Ôxy hóa bề mặt: được xử lý bằng một lớp oxit độc đáo để cải thiện độ dẫn điện
  • Tính dẫn điện: vật liệu dẫn điện cao cho các ứng dụng bán dẫn
  • Vật liệu bán dẫn: được thiết kế để đáp ứng các tiêu chuẩn cao nhất về chất lượng, độ tin cậy và hiệu suất
 

Hỗ trợ và Dịch vụ:

Hỗ trợ kỹ thuật và dịch vụ nền bán dẫn

Tại XYZ, chúng tôi cung cấp hỗ trợ kỹ thuật và dịch vụ cho các sản phẩm chất nền bán dẫn của chúng tôi.Nhóm chuyên gia của chúng tôi sẵn sàng để giúp bạn với bất kỳ câu hỏi hoặc mối quan tâm bạn có thể có liên quan đến sản phẩm của chúng tôiChúng tôi cung cấp hỗ trợ trực tuyến và điện thoại, và có sẵn 24 giờ một ngày, 7 ngày một tuần.

Chúng tôi cũng cung cấp một hướng dẫn giải quyết sự cố toàn diện để giúp bạn tìm ra giải pháp cho bất kỳ vấn đề nào bạn có thể gặp phải với sản phẩm của chúng tôi.chuyên gia sản phẩm của chúng tôi có sẵn để cung cấp hỗ trợ cá nhân.

Nếu bạn cần một bộ phận thay thế, chúng tôi cũng cung cấp một sự lựa chọn rộng rãi các bộ phận thay thế cho tất cả các chất nền bán dẫn của chúng tôi.Chúng tôi tự hào trong việc cung cấp cho khách hàng của chúng tôi các bộ phận chất lượng cao nhất và dịch vụ.

Chúng tôi cố gắng cung cấp dịch vụ khách hàng tốt nhất có thể và cam kết đảm bảo rằng bạn hoàn toàn hài lòng với việc mua hàng của bạn.Xin đừng ngần ngại liên hệ với chúng tôi.

Gia đình chúng ta

ZMSH là một doanh nghiệp công nghệ cao chuyên nghiên cứu, sản xuất, chế biến và bán chất nền bán dẫn và vật liệu tinh thể quang học.,và điện tử quang học, điện tử tiêu dùng, ngành công nghiệp quân sự, cũng như các lĩnh vực truyền thông laser và quang học.

Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8" 2

Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8" 3

Các sản phẩm khác được khuyến cáo

Wafer SOI

Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8" 4

Bánh SiC

Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8" 5

Muốn biết thêm chi tiết về sản phẩm này
Single Crystal Si Wafer thiết bị điện tử chất nền Photolithography Layer 2"3"4"6"8" bạn có thể gửi cho tôi thêm chi tiết như loại, kích thước, số lượng, chất liệu, v.v.

Chờ hồi âm của bạn.