Silicon Carbide Trays SiC wafers đĩa tray cho khắc ICP MOCVD Susceptor Wear Resistant
Thông tin chi tiết sản phẩm:
Hàng hiệu: | ZMSH |
Số mô hình: | Khay bánh xốp SiC |
Thanh toán:
Số lượng đặt hàng tối thiểu: | 5 |
---|---|
Thời gian giao hàng: | 2-4 tuần |
Điều khoản thanh toán: | T/T |
Khả năng cung cấp: | 5 |
Thông tin chi tiết |
|||
Nguồn gốc: | Trung Quốc ZMSH | Thành phần hóa học: | Graphite phủ SiC |
---|---|---|---|
Độ bền uốn: | 470Mpa | Chống nhiệt:: | 300 W/mK |
Chức năng: | CVD-SiC | Mật độ: | 3,21 g/cc |
giãn nở nhiệt: | 4 10-6/K | Tro: | < 5 ppm |
Mã Hs: | 6903100000 | Chống nhiệt:: | 116 W/mK (100 kcal/mhr-°C) |
Điểm nổi bật: | ICP khắc Silicon Carbide Trays,MOCVD Susceptor Silicon Carbide Trays,Thẻ chống mòn Silicon Carbide |
Mô tả sản phẩm
Silicon Carbide Trays SiC wafers đĩa tray cho khắc ICP MOCVD Susceptor Wear Resistant
Mô tả
Các khay graphit phủ SIC được chế tạo từ ma trận graphit tinh khiết cao, nhận một lớp phủ SiC thông qua CVD (sự lắng đọng hơi hóa học) với độ tinh khiết cao và mật độ lý thuyết.Lớp phủ CVD SiC này rất cứng., cho phép nó được đánh bóng cho một kết thúc giống như gương, thể hiện độ tinh khiết cực cao và khả năng chống mòn đáng chú ý.làm cho chúng lý tưởng cho ngành công nghiệp bán dẫn và các thiết lập siêu sạch khácChủ yếu được sử dụng như là chất nền để hình thành lớp epitaxial trên wafer bán dẫn, chúng cung cấp một số lợi thế, chẳng hạn như bề mặt tinh khiết cực cao và khả năng chống mòn vượt trội.Với CVD đảm bảo lớp phủ SiC với lỗ chân lông tối thiểu và tính chất được đánh bóng của silicon carbide, các sản phẩm này được sử dụng rộng rãi trong các ngành công nghiệp bán dẫn, bao gồm các khay MOCVD, RTP và các buồng khắc oxit,do khả năng chống sốc nhiệt và độ bền plasma tuyệt vời của silic nitride.
Màn trình bày sản phẩm
Tính chất của sản phẩm
- Độ tinh khiết cực cao
- Chống sốc nhiệt tuyệt vời
- Chống va chạm vật lý tuyệt vời
- Khả năng gia công cho các hình dạng phức tạp
- Sự ổn định hóa học tuyệt vời
- Có thể được sử dụng trong khí quyển oxy hóa.
Điểm | Đơn vị | Các thông số kỹ thuật | |
---|---|---|---|
Đường sắt | -- | SSiC | SiSiC |
Màu sắc | -- | Màu đen | Màu đen |
Mật độ | g/cm3 | 3.12 | 3.06 |
Hấp thụ nước | % | 0 | 0 |
HRA | -- | ≥ 92 | ≥ 90 |
Mô đun độ đàn hồi | GPA | 400 | 350 |
Sức mạnh uốn cong (@R.T.) | Mpa | 359 | 300 |
Sức mạnh nén (@R.T.) | Mpa | ≥2200 | 2000 |
Khả năng dẫn nhiệt (@R.T.) | W/Mk | 110 | 100 |
Tỷ lệ mở rộng nhiệt (20-1000°C) |
10-6/°C | 4.0 | 4.0 |
Nhiệt độ hoạt động tối đa | °C | 1500 | 1300 |
Ứng dụng sản phẩm
ICP Etching:Các khay Silicon Carbide là các thành phần quan trọng trong các hệ thống khắc ICP (Inductively Coupled Plasma), nơi chúng phục vụ như các nền tảng mạnh mẽ để giữ và xử lý các tấm bán dẫn.Bản chất chống mòn của các khay đảm bảo độ tin cậy và sự nhất quán kéo dài trong quá trình khắc, góp phần chuyển đổi mô hình chính xác và sửa đổi bề mặt trên các wafer.
Nghi phạm MOCVD:Trong các hệ thống MOCVD, Silicon Carbide Trays hoạt động như các chất nhạy cảm, cung cấp hỗ trợ ổn định cho việc lắng đọng các phim mỏng trên chất nền bán dẫn.Khả năng duy trì độ tinh khiết cao và chịu được nhiệt độ cao làm cho chúng lý tưởng để tạo điều kiện cho sự phát triển của các lớp epitaxial với chất lượng và sự đồng nhất cao.
Chống mòn:Được trang bị lớp phủ SiC, các khay này thể hiện khả năng chống mòn đặc biệt, đảm bảo tuổi thọ hoạt động kéo dài ngay cả trong điều kiện hoạt động đòi hỏi khắt khe.Chống mài mòn và phân hủy hóa học làm tăng năng suất và giảm thiểu thời gian ngừng hoạt động, làm cho chúng trở nên không thể thiếu trong môi trường sản xuất bán dẫn công suất cao.
Thang graphite được phủ SIC được sử dụng làm cơ sở để cố định và sưởi ấm các tấm wafer bán dẫn trong quá trình xử lý nhiệt. Năng lượng có thể được hấp thụ và làm nóng chip thông qua cảm ứng, dẫn hoặc bức xạ,và khả năng chống sốc nhiệt của nó, dẫn nhiệt và độ tinh khiết là điều cần thiết cho xử lý nhiệt nhanh (RTP).và hiệu suất và chất lượng của cơ sở có ảnh hưởng quan trọng đến chất lượng lớp epitaxial wafer.
Câu hỏi và câu trả lời
Graphite susceptor là gì?
Các thiết bị nắp và nắp từ vật liệu graphitebảo vệ sinter khỏi các ảnh hưởng bên ngoài, chẳng hạn như bức xạ nhiệt trực tiếp từ các yếu tố sưởi ấm. Họ tự làm nóng và phát ra nhiệt của họ đồng đều cho các mảnh làm việc.
SiC là gì?
Lớp phủ silicon carbide là gì?một lớp phủ silicon carbide (SiC) dày đặc, chống mònChúng tôi áp dụng SiC trong các lớp mỏng lên graphite bằng quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD).Ứng dụng.
Silicon carbide graphite là gì?
SiC30 - Vật liệu tổng hợp silicon carbide-graphite
SiC30 làmột vật liệu tổng hợp đặc biệt bao gồm silicon carbide và graphite, kết hợp các tính chất giải quyết các vấn đề không thể giải quyết bằng các vật liệu khác.Sản phẩm
Đề xuất sản phẩm
1SIC Silicon Carbide Wafer 4H - N Type For MOS Device 2inch Dia50.6mm ((để biết thêm, vui lòng nhấp vào hình ảnh)
Lưu ý
Vui lòng liên hệ với chúng tôi để biết chi tiết cụ thể về các tùy chọn sản phẩm tùy chỉnh.
Từ khóa:
- Thẻ chứa Silicon Carbide
- Lớp phủ SiC
- CVD (khả chất hơi hóa học)
- Độ tinh khiết cao
- Chống mòn
- Ngành công nghiệp bán dẫn
- Lớp trục
- MOCVD
- Chống sốc nhiệt
- Các tùy chọn tùy chỉnh