 |
Quartz Wafer Boat Độ tinh khiết cao & chống nhiệt độ cao tùy chỉnh
Thông tin chi tiết sản phẩm:
| Nguồn gốc: | Trung Quốc |
| Hàng hiệu: | ZMSH |
Thanh toán:
| Số lượng đặt hàng tối thiểu: | 1 |
|---|
|
Thông tin chi tiết |
|||
| Độ tinh khiết của vật liệu: | SiO₂≥9999% | Điểm nóng chảy: | 1730 ° C (điểm làm mềm) |
|---|---|---|---|
| Công suất wafer tối đa: | 25 wafer (kích thước tiêu chuẩn) | kháng axit: | Kháng axit sunfuric, nitric, hydrochloric (trừ HF) |
| Chống ăn mòn: | Cao hơn 30 × so với gốm sứ, cao hơn 150 × so với thép không gỉ | Các quy trình tương thích: | Khuếch tán chất bán dẫn, ủ, doping quang điện, phản ứng phòng thí nghiệm |
| Làm nổi bật: | Quartz tinh khiết cao Wafer thuyền,Tàu Quartz Wafer có thể tùy chỉnh,Tàu Quartz Wafer chịu nhiệt độ cao |
||
Mô tả sản phẩm
Bảng giới thiệu sản phẩm
Một chiếc thuyền wafer, còn được gọi là một chiếc thuyền hoặc người mang, là một công cụ quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn để giữ, chuyển và định vị các wafer.Thiết kế của nó phải chịu được các điều kiện khắc nghiệt như nhiệt độ cao (> 1000 °C), ăn mòn hóa học và xả điện tĩnh (ESD) để đảm bảo an toàn wafer trong các quy trình khác nhau.
Nguyên tắc
Định hướng & Cài đặt:
Các lỗ định vị trên thuyền liên kết với các chân trong băng wafer, cho phép chuyển lô mà không cần xử lý bằng tay.
Các khe cắm hai lớp (cao và dưới) bảo mật các tấm trong chu kỳ nhiệt (ví dụ như ủ).
Quản lý căng thẳng nhiệt:
Vật liệu mở rộng nhiệt thấp (0,5 × 10−6 ° C) giảm thiểu độ cong trong biến động nhiệt độ.
Cấu trúc ruồi mật ong phân phối áp lực nhiệt đồng đều.
Sự tương thích của quá trình:
Các hình học khe (ví dụ: loại I, loại V) chứa các độ dày wafer khác nhau (300 ∼ 800 μm) trong khi đảm bảo dòng chảy phản ứng pha khí.
Màn cắt ngang hình kim cương cho phép tải robot hai chiều, cải thiện thông lượng.
An toàn & Bảo vệ:
Các thành phần đệm (bơm, miếng cao su) hấp thụ các cú sốc cơ học trong khi đặt wafer.
Làm sạch nitơ loại bỏ dư lượng, ngăn ngừa ô nhiễm
Đặc điểm
Kính silica nóng chảy là một loại kính công nghiệp chuyên dụng được làm từ silicon dioxide (SiO2).
- Chống nhiệt độ cao:
Điểm mềm: ~ 1730°C.
Hoạt động liên tục ở 1100~1250°C và chịu được phơi nhiễm ngắn hạn lên đến 1450°C.
- Chất hóa học trơ trẽn:
Chống hầu hết các axit (ngoại trừ axit hydrofluoric).
Kháng ăn mòn cao hơn 30 lần so với gốm và cao hơn 150 lần so với thép không gỉ.
Duy trì sự ổn định trong điều kiện nhiệt cực đoan, vượt trội hơn các vật liệu khác.
- Sự ổn định nhiệt:
Tỷ lệ mở rộng nhiệt cực kỳ thấp (~ 5,5 × 10−7 °C).
Tránh sốc nhiệt (ví dụ, làm nóng đến 1100 °C và tắt trong nước).
- Độ minh bạch quang học:
Truyền quang phổ rộng từ cực tím (UV) đến hồng ngoại (IR).
Độ truyền ánh sáng nhìn thấy: > 95%.
Độ truyền tia UV đạt đỉnh > 85% trong phạm vi 185 ~ 250 nm.
- Khép kín điện:
Kháng xạ cao hơn kính bình thường 10.000 lần.
Tính chất điện môi tuyệt vời ngay cả ở nhiệt độ cao.
Ứng dụng
Photovoltaics:Phương pháp xử lý nhiệt và doping.
R&D:Các lò phản ứng nhiệt độ cao quy mô phòng thí nghiệm và thử nghiệm vật liệu