Bột HPSI SiC bán cách nhiệt độ tinh khiết cao/99,9999% Tăng trưởng tinh thể tinh khiết

Bột HPSI SiC bán cách nhiệt độ tinh khiết cao/99,9999% Tăng trưởng tinh thể tinh khiết

Thông tin chi tiết sản phẩm:

Nguồn gốc: Trung Quốc
Hàng hiệu: ZMSH

Thanh toán:

Điều khoản thanh toán: T/T
Giá tốt nhất Tiếp xúc

Thông tin chi tiết

Độ tinh khiết: ≥ 99,9999% (6N) Particle Size: 0.5 µm - 10 µm
Chiều rộng bandgap: ~ 3,26 eV Mohs Hardness: 9.5
Làm nổi bật:

Bột SiC tăng trưởng tinh thể

,

Bột sic có độ tinh khiết cao

,

Bột SiC bán cách nhiệt

Mô tả sản phẩm

Bảng giới thiệu sản phẩm

 

Bột SiC HPSI (High Purity Semi-Isolating Silicon Carbide) là một vật liệu hiệu suất cao được sử dụng rộng rãi trong điện tử công suất, thiết bị quang điện tử và nhiệt độ cao,Ứng dụng tần số caoĐược biết đến với độ tinh khiết đặc biệt, tính chất phân cách và độ ổn định nhiệt, bột SiC HPSI là một vật liệu quan trọng cho các thiết bị bán dẫn thế hệ tiếp theo.

 

Nguyên tắc hoạt động

 

Quá trình tăng trưởng tinh thể trong lò hỏa đơn tinh thể Silicon Carbide (SiC) PVT:

  • Đặt bột silicon carbide (SiC) tinh khiết cao ở đáy của thùng graphite bên trong lò, và gắn một tinh thể hạt nhân silicon carbide với bề mặt bên trong nắp thùng.
  • Nên làm nóng thạch đến nhiệt độ vượt quá 2000 °C bằng cách sử dụng sưởi ấm cảm ứng điện từ hoặc sưởi ấm kháng cự. Thiết lập gradient nhiệt độ trục trong thạch.duy trì nhiệt độ tại tinh thể hạt giống thấp hơn một chút so với ở nguồn bột.
  • Bột SiC phân hủy thành các thành phần khí bao gồm nguyên tử silicon, phân tử SiC2 và phân tử Si2C.các chất pha hơi này vận chuyển từ vùng nhiệt độ cao (bột) đến vùng nhiệt độ thấp (những tinh thể hạt giống)Trên mặt carbon của tinh thể hạt giống, các thành phần này sắp xếp trong một cấu trúc nguyên tử theo định hướng tinh thể của tinh thể hạt giống.tinh thể dần dần dày lên và cuối cùng phát triển thành một thỏi silicon carbide.

Bột HPSI SiC bán cách nhiệt độ tinh khiết cao/99,9999% Tăng trưởng tinh thể tinh khiết 0

Thông số kỹ thuật

 

Parameter Phạm vi giá trị
Độ tinh khiết ≥ 99,9999% (6N)
Kích thước hạt 0.5 - 10 μm
Kháng chất 105 - 107 Ω·cm
Khả năng dẫn nhiệt ~490 W/m·K
Chiều rộng băng tần ~ 3,26 eV
Độ cứng Mohs 9.5

 

Ứng dụng

SiC tăng trưởng tinh thể đơn

 

  • Bột SiC HPSI chủ yếu được sử dụng làm nguyên liệu thô để sản xuất các tinh thể đơn silicon carbide tinh khiết cao thông qua vận chuyển hơi vật lý (PVT) hoặc phương pháp sublimation.

 

Cấu trúc vật lý

 

Bột HPSI SiC có cấu trúc tinh thể cao, thường ở dạng sáu góc (4H-SiC) hoặc khối (3C-SiC) đa loại, tùy thuộc vào phương pháp sản xuất. Độ tinh khiết cao của nó được đạt được bằng cách giảm thiểu các tạp chất kim loại và kiểm soát sự bao gồm các chất bổ sung như nhôm hoặc nitơ,ảnh hưởng đến tính năng điện và cách nhiệt của nóKích thước hạt mịn đảm bảo sự đồng nhất và tương thích với các quy trình sản xuất khác nhau.

 

Câu hỏi và câu trả lời

Q1: Bột silicon carbide HPSI ((SiC) được sử dụng cho gì?
Ứng dụng bột micron SiC là các máy tiêm phun cát, niêm phong máy bơm nước ô tô, vòng bi, thành phần máy bơm và đệm ép sử dụng độ cứng cao, khả năng chống mòn,và chống ăn mòn của silicon carbide.

Q2: Bột Silicon Carbide (SiC) HPSI là gì?

Bột Silicon Carbide HPSI (High Purity Sintered) là một vật liệu SiC độ tinh khiết cao, mật độ cao được sản xuất thông qua các quy trình sintering tiên tiến.

Q3: Bột HPSI SiC có thể được tùy chỉnh cho các ứng dụng cụ thể không?

Vâng, bột HPSI SiC có thể được tùy chỉnh về kích thước hạt, mức độ tinh khiết và nồng độ doping để đáp ứng các nhu cầu công nghiệp hoặc nghiên cứu cụ thể.

Q4: Làm thế nào bột HPSI SiC ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng wafer bán dẫn?

Độ tinh khiết, kích thước hạt và pha tinh thể của nó quyết định trực tiếp.

 

Sản phẩm liên quan

Bột HPSI SiC bán cách nhiệt độ tinh khiết cao/99,9999% Tăng trưởng tinh thể tinh khiết 1

 

Muốn biết thêm chi tiết về sản phẩm này
Bột HPSI SiC bán cách nhiệt độ tinh khiết cao/99,9999% Tăng trưởng tinh thể tinh khiết bạn có thể gửi cho tôi thêm chi tiết như loại, kích thước, số lượng, chất liệu, v.v.

Chờ hồi âm của bạn.